Технологический специальный газ, используемый в процессе производства TFT-LCD, процесс осаждения CVD: силан (S1H4), аммиак (NH3), фосфор (pH3), смех (N2O), NF3 и т. д., а также в дополнение к технологическому процессу Высокая чистота водород и азот высокой чистоты и другие крупные газы.В процессе распыления используется газообразный аргон, а газообразная пленка распыления является основным материалом для распыления.Во-первых, пленкообразующий газ не может вступать в химическую реакцию с мишенью, и наиболее подходящим газом является инертный газ.В процессе травления также будет использоваться большое количество специального газа, а электронный специальный газ в основном является легковоспламеняющимся и взрывоопасным, а также высокотоксичным газом, поэтому требования к газовому тракту высоки.Wofly Technology специализируется на разработке и установке транспортных систем сверхвысокой чистоты.
Специальные газы в основном используются в производстве ЖК-дисплеев для процессов формирования и сушки пленки.Жидкокристаллический дисплей имеет широкий спектр классификаций, где TFT-LCD быстрый, качество изображения высокое, а стоимость постепенно снижается, и в настоящее время используется наиболее широко используемая ЖК-технология.Производственный процесс панели TFT-LCD можно разделить на три основных этапа: передняя матрица, процесс упаковки с ориентацией на среду (CELL) и процесс сборки модуля после этапа.Электронный специальный газ в основном применяется для формирования пленки и стадии сушки предыдущего процесса массива, а неметаллическая пленка SiNX и затвор, источник, сток и ITO осаждаются соответственно, а также металлическая пленка, такая как затвор, источник, сток и ITO.
Время публикации: 13 января 2022 г.